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1.設備工藝
●預處理-反滲透-初混床-精混床-紫外線殺菌器-拋光混床-精濾器-用水點(≥15MΩ*cm)
●預處理-反滲透- EDI裝置-紫外線殺菌器-拋光混床-精濾器-用水點(≥15MΩ*cm)
●預處理-雙級反滲透-EDI裝置-紫外線殺菌器-拋光混床-精濾器-用水點(≥18MΩ*cm)
●預處理-反滲透- EDI裝置-紫外線殺菌器-精濾器-用水點(≥10MΩ*cm)
●預處理-反滲透-初混床-精混床-紫外線殺菌器-精濾器-用水點(≥10MΩ*cm)
●預處理-反滲透-初混床-紫外線殺菌器-精濾器-用水點(≥5MΩ*cm)
2.設備特點
為了滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡量檢索各級的污染,延長設備的使用壽命,降低操作人員維護的工作量,在工藝設計上,取達到國家自來水標準為水源,再設有多介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子交換器,精密過濾器等預處理系統(tǒng),RO反滲透主機系統(tǒng),EDI裝置,混床,精/初混床等,系統(tǒng)水箱中均設用水位控制開關,水泵高低壓力保護裝置在線檢測控制儀器儀表,電器采用自動控制編程,真正做到無人職守,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使設備與其他同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設備的可靠性。(水質符合美國ASTM標準,電子部超純水水質標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,10MΩ*cm和5MΩ*cm四級)
3.應用場合
· 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
· 超純材料和超純化學試劑;
· 實驗室和中試車間
· 汽車、家電表面拋光處理;
· 其他高科技精微產(chǎn)品。
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